電界放出形電子線マイクロアナライザー（FE-EPMA）

概要

試料表面に電子線を照射すると試料表面を構成する元素固有のX線（特性X線）が発生します。

電子線マイクロアナライザー（EPMA）では、特性X線を波長分光し、元素の種類の同定と強度から定量を行います。電子線を点、線、面で走査する事により、点･線等の指定領域での定性・定量分析が可能で、さらに、元素毎のマッピング分析も可能です。

EPMA微小領域分析のニーズに対して、発生するX線の空間分解能の問題がありましたが、ショットキー型FE電子銃(Field Emission)の導入により解消された為、FE-EPMAを導入しました。

X線発生原理

微小部での元素分析

空間分解能≦100nm (通常EPMA：1μm～2μm)
高倍率でのマッピング分析

×50,000倍 (2μm×2μm領域)

(通常EPMA：×2,000倍 (50μm×50μm))
広範囲でのマッピング分析

最大80mm×80mm領域
高感度分析

高電流密度による高感度分析 (測定時間短縮可能)

検出下限 EDX (0.1％～0.5％)、WDX (0.01％～0.05％)
高定量精度

誤差 EDX (0.5％～数％)、WDX (0.1％～0.2％)
高エネルギー分解能

EDX (～150eV)、WDX (～10eV)

ピーク重畳分離可能 (Na/Zn、S/Mo、F/Fe、O/Cr 等)

各種電子銃の特性

名称	Wフィラメント	LaB₆	Thermal FE
輝度 ( A/cm² )	10⁴ ～ 10⁵	10⁵ ～ 10⁶	10⁷ ～ 10⁸
光源サイズ	20μm	10μm	20nm ～ 50nm
電流安定性上段：短期下段：長期	0.5％以下 1％以下/hr	1％以下 3％以下/hr	1％以下 1％以下/hr
プローブ径 (10kV - 10nA)	100nm	50nm	20nm
主な用途	大電流安定性	大電流高分解能	高輝度/大電流高分解能